光刻机巨头ASML给中国开绿灯 DUV进口无需授权但EUV受限

现在，一个难得的好消息是，光刻机可以进口了，并且美国无需限制。

而这个底气是半导体巨头、全球光刻机领头企业荷兰的阿斯麦尔(ASML)给中国的。

10 月 14 日，ASML 首席财务官罗杰·达森（Roger Dassen），对向中国出口光刻机的问题作出了表态。他表示：

ASML 可以从荷兰向中国出口 DUV（深紫外）光刻机，无需美国许可。

这无疑给了中国半导体行业新的希望。

但别高兴太早。

ASML 方面也提到：

如果相关系统或零件是从美国出口的，那这些设备仍然需要得到美方的许可。

此外，从 ASML 的表态中也可得知，除了允许进口 DUV 光刻机外，并未提到更先进的 EUV（极紫外）光刻机。

尽管如此，这对于中国半导体行业来说都是一件极大的幸事了。

ASML 为什么不惧美国禁令？

ASML 为什么有底气进口 DUV 光刻机给中国？

Roger Dassen 解释说：

“如果要解释一下美国的规定对 ASML 有什么影响的话，对于的中国客户，我们还是可以直接从荷兰向他们出口 DUV 光刻机，无需任何出口许可。”

也就是说，美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等，但并没有限制其他国家对中国进口，荷兰并不在美国的禁令范围内。

但如果相关系统或零件是从美国出口的，这就另当别论了。

同时他也表示 ASML 将尽最大努力，尽可能为所有客户继续提供服务和支持。

值得注意的是，当天也是 ASML 发布新一季度财报的日子，我们从其财报中也看到了 ASML 出口光刻机的一些原因。

ASML 第三季度财报显示，ASML 当季总共销售 60 部光刻系统，净销售额为 40 亿欧元，净收入 11 亿欧元，毛利率达到了 47.5%，营收攀升至 39.58 亿欧元，其中，中国占据 21% 的份额。

前九个月销售业绩高达 97.24 亿欧元（约合人民币770亿元），同比大增近 25%。其中，来自高端 EUV 光刻机的收入占比达到了总收入的 66％。

此外，ASML 还十分看好中国市场。海关总署数据显示，今年 1-8 月，我国累计进口了 3334.6 亿美元的集成电路，同比大增 22.5%。

据南方新闻网报道，在 9 月 17 日的中国集成电路制造年会上，ASML 全球副总裁、中国区总裁沈波透露，截至当前，中国已经实现了 700 多台 ASML 光刻机的装机，几乎所有芯片生产商都购买过该公司的服务。

中国对于 ASML 来说实在是一个大市场。

而 ASML 也一直对中国市场有扩张野心。

在第 23 届中国集成电路制造年会(CICD 2020)暨广东集成电路产业发展论坛上，ASML 全球副总裁、中国区总裁沈波就表示：

ASML 在中国大陆成立第一个办公室迄今已有 20 年，从第一台光刻机开始，就是中国半导体行业的亲历者、见证者、和推动者。未来，ASML 还将持续投入、扩大布局、培养人才，携手行业伙伴，和中国半导体产业实现共同发展。

此外，资料显示，2000 年，ASML 在中国天津正式成立大陆地区的第一个办公室，迄今为止在中国大陆12 个城市有办事处或分支机构，分别为天津、上海、北京、无锡、武汉、西安、大连、南京、厦门（晋江）、合肥、深圳、广州。

可以说从一线城市到二三线城市都有 ASML 的布局。在中国受美方的打压下，ASML 却在加速中国市场的布局。

这又是一个值得思考的问题。

网友：进口 DUV 光刻机没用，真正卡脖子的是 EUV

听闻这一消息，网友也纷纷表态。

在他们看来，中国真正需要的是 EUV 光刻机，ASML 这一做法并不能解燃眉之急，当务之急还是要自力更生。

为什么这么说呢？

我们先来看下 DUV 和 EUV 之间的区别。

目前的光刻机主要分为 EUV 光刻机和 DUV 光刻机。

DUV 光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于 ASML 手中诞生，其波长虽然有 193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能够达到 7nm 工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本大大提升，而且良品率也难以控制。

而 EUV 光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破 10nm 芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV（深紫外线）光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有 ASML 的 EUV 光刻机，芯片巨头台积电、三星、英特尔的 5nm 产线就无法投产。

EUV 的重要性可想而知。

事实上，早在今年 3 月，中芯国际就向 ASML 购买了一台大型光刻机，外界传言为 EUV，但中芯国际也在此后证实并非外界传言的极紫外光刻机。

这也进一步证明了 EUV 的重要性。

国内光刻机困境

那么，国内光刻机的发展现状如何呢？

根据百度百科的解释，一台光刻机由上万个部件组成，有人形容称这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。

而一台光刻机的售价从数千万美元高至过亿美元，可见光刻机的重要性。

在全球范围内，光刻机市场几乎被 3 家厂商瓜分：荷兰的阿斯麦（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在这 3 家中，ASML 又是当之无愧的一哥。据中银国际报告，阿斯麦全球市场市占率高达 89%，其余两家的份额分别是 8% 和 3%，加起来仅有 11%。在 EUV 光刻机市场中，ASML 的市占率则是100%。

而中国对于光刻机的制造几乎还在起步阶段。

目前，中国芯片制造方面顶尖的中芯国际只有 28 纳米的生产工艺，14 纳米工艺才刚刚开始量产，且中国芯片制造只能占到世界 7.3%的份额。

但近年来，国家加大了对半导体行业的投入。

2019 年 4 月，武汉光电国家研究中心甘棕松团队，采用二束激光，在自研的光刻胶上，突破光束衍射极限的限制，并使用远场光学的办法，光刻出最小 9nm 线宽的线段。

2020 年初，中科院对外宣称已经攻克了 2nm 工艺的难题，相关研究成果已经发布到国际微电子器件领域的期刊当中。

5 月 19 日，上海微电子装备（集团）股份有限公司称，其自研的高亮度 LED 步进投影光刻机，是中国首台面向 6 英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品，已从 1200 多个申报项目中成功突围，入选“上海设计 100+”。

10 月15 日，南京集成电路产业服务中心副总经理吕会军向媒体证实中国将建立一所南京集成电路大学，专门培养实践型芯片研发人才，以加速芯片的国产化。

诚然，中国在光刻机这条路上还有很长的路要走，但在经历了卡脖子的困境后，相信中国企业已经意识到自主研发的重要性。而美国长期的封锁和打压只会激发中国放弃侥幸，集中力量，让核心科技硬起来。

同时，对于国内的光刻企业还要给予耐心，不能急功近利。